Transition Metal Complex Reaction Etching for MRAM Applications using Neutral Beam and Its Mechanism Investigated by First-Principles Calculation
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利用中性束进行 MRAM 应用的过渡金属络合物反应蚀刻及其第一性原理计算研究机制
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and Seiji Samukawa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Tomohiro Kubota;Yoshiyuki Kikuchi;Toshihisa Nozawa;and Seiji Samukawa
