Epitaxy in Fe3Si/FeSi2 Superlattices Prepared by Facing Target Direct-Current Sputtering at Room Temperature
Epitaxy in Fe3Si/FeSi2 Superlattices Prepared by Facing Target Direct-Current Sputtering at Room Temperature
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室温对靶直流溅射制备Fe3Si/FeSi2超晶格的外延
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
D.Nakagauchi(+7)
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K,Takeda;T.Yoshitake;D.Nakagauchi(+7)
