Fabrication of metal nano dot dry etching mask using block copolymer thin film
Fabrication of metal nano dot dry etching mask using block copolymer thin film
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利用嵌段共聚物薄膜制作金属纳米点干法刻蚀掩模
DOI：
10.1016/j.cap.2008.08.012
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发表时间：
2009
影响因子：
2.4
通讯作者：
J. Park
中科院分区：
文献类型：
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作者：
G. Kang;Sangsig Kim;Yangdoo Kim;J. Park
