p-Cu2O/SiOx/n-SiC構造pnメモリダイオードの低温形成
p-Cu2O/SiOx/n-SiC構造pnメモリダイオードの低温形成
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p-Cu2O/SiOx/n-SiC结构pn存储二极管的低温形成
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
須田良幸
中科院分区：
文献类型：
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作者：
山下敦史;塚本貴広;須田良幸
