Bi プレディポジションによる Ge ナノドットの 石英基板上への低温形成
Bi プレディポジションによる Ge ナノドットの 石英基板上への低温形成
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利用 Bi 预沉积在石英基底上低温形成 Ge 纳米点
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
岡本浩
中科院分区：
文献类型：
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作者：
鈴木良優;滝田健介;俵毅彦;舘野功太;章国強;後藤秀樹;岡本浩
