極薄Si酸化膜を用いたエピタキシャル量子ドット二次元ナノ配列構造の自己組織化と自己修復
極薄Si酸化膜を用いたエピタキシャル量子ドット二次元ナノ配列構造の自己組織化と自己修復
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超薄硅氧化物薄膜外延量子点二维纳米阵列结构的自组织与自修复
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
市川昌和
中科院分区：
文献类型：
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作者：
中村芳明;村山昭之;渡邉亮子;彌田智一;市川昌和
