スパッタリング法によるHfO2基強誘電体厚膜の室温製膜とその電気特性評価
スパッタリング法によるHfO2基強誘電体厚膜の室温製膜とその電気特性評価
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溅射法室温沉积HfO2基铁电厚膜及其电性能评价
DOI：
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
舟窪浩
中科院分区：
文献类型：
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作者：
志村礼司郎;三村和仙;舘山明紀;清水荘雄;舟窪浩
