MIGRATION OF GOLD ATOMS THROUGH THIN SILICON-OXIDE FILMS
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DOI：
10.1063/1.1663192
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发表时间：
1974-01-01
影响因子：
3.2
通讯作者：
HOWES, MJ
中科院分区：
文献类型：
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作者：
MADAMS, CJ;MORGAN, DV;HOWES, MJ
