Uniform Si nano-dot fabrication using reconstructed structure of Si(110)
Uniform Si nano-dot fabrication using reconstructed structure of Si(110)
复制标题
使用 Si(110) 重构结构制造均匀的 Si 纳米点
DOI：
10.7567/jjap.57.06hd04
复制
发表时间：
2018
影响因子：
1.5
通讯作者：
Asaoka Hidehito
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Yano Masahiro;Uozumi Yuki;Yasuda Satoshi;Asaoka Hidehito
