Effect of surface treatment of Si substrate on the crystal structure of FeSi_2 thin film formed by ion beam sputter deposition method
Effect of surface treatment of Si substrate on the crystal structure of FeSi_2 thin film formed by ion beam sputter deposition method
复制标题
Si衬底表面处理对离子束溅射沉积法形成FeSi_2薄膜晶体结构的影响
DOI：
--
复制
发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
S.Igarashi et al.
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
乾 義尚;松前友広;西浦 健;S.Igarashi et al.
