K.Yokagawa, S.Satoh, C.Yamabe et al.: "A study on mask type stereo-lithography with XeCl excimer laser (in Japanese)"Reports on Topical Meeting of The Laser Society of Japan. No. RTM-97-46. 39-43 (1997)
K.Yokagawa, S.Satoh, C.Yamabe et al.: "A study on mask type stereo-lithography with XeCl excimer laser (in Japanese)"Reports on Topical Meeting of The Laser Society of Japan. No. RTM-97-46. 39-43 (1997)
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K.Yokakawa、S.Satoh、C.Yamabe 等人：“利用 XeCl 准分子激光进行掩模型立体光刻的研究（日语）”日本激光学会专题会议报告。
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