RF plasma sources for PECVD and soft-material processes
RF plasma sources for PECVD and soft-material processes
复制标题
用于 PECVD 和软材料工艺的射频等离子体源
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K. Takenaka and A. Ebe
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y. Setsuhara;S. Osaki;K. Takenaka and A. Ebe
