Synthesis of β-FeSi2 for optical applications by Fe triple-energy ion implantation into Si(100) and Si(111) substrates
Synthesis of β-FeSi2 for optical applications by Fe triple-energy ion implantation into Si(100) and Si(111) substrates
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通过 Fe 三能离子注入 Si(100) 和 Si(111) 衬底合成用于光学应用的 β-FeSi2
DOI：
10.1016/0040-6090(96)08645-2
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发表时间：
1996
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
S. Uekusa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H. Katsumata;Y. Makita;N. Kobayashi;M. Hasegawa;H. Shibata;S. Uekusa
