Y.Saito and T.Takagi: "Tungsten chemical vapor deposition on silicon and silicon dioxide with plasma excited argon and hydrogen" Proc.of the 2nd Int.Conf on Reactive plasmas and 11th Smyp.on Plasma Processing. 661-664 (1994)
Y.Saito and T.Takagi: "Tungsten chemical vapor deposition on silicon and silicon dioxide with plasma excited argon and hydrogen" Proc.of the 2nd Int.Conf on Reactive plasmas and 11th Smyp.on Plasma Processing. 661-664 (1994)
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Y.Saito 和 T.Takagi：“用等离子体激发氩和氢在硅和二氧化硅上进行钨化学气相沉积”第 2 届反应等离子体国际会议和第 11 届 Smyp.on 等离子体处理会议论文集。
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