Gas-source molecular beam epitaxy and luminescence characterization of strained Si1−xGex/Si quantum wells

Gas-source molecular beam epitaxy and luminescence characterization of strained Si1−xGex/Si quantum wells
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应变 Si1−xGex/Si 量子阱的气源分子束外延和发光表征

DOI:
10.1016/0022-0248(94)90432-4
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发表时间:
1994
影响因子:
1.8
通讯作者:
K. Okumura
K. Okumura
中科院分区:
材料科学3区
文献类型:
--
作者:
S. Fukatsu;N. Usami;Y. Kato;H. Sunamura;Y. Shiraki;H. Oku;T. Ohnishi;Y. Ohmori;K. Okumura

文献摘要

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