Reactive Deposition Epitaxy of β-FeSi_2 Islands on Si(001) Observed by in situ X-Ray Diffraction

Reactive Deposition Epitaxy of β-FeSi_2 Islands on Si(001) Observed by in situ X-Ray Diffraction
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原位X射线衍射观察Si(001)上β-FeSi_2岛的反应沉积外延

DOI:
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发表时间:
2011
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
花田貴
花田貴
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
安藤幸治、山中孝彦、岡本茂;ほか;笹倉弘理;Seiji Mizuno;花田貴

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