Multiple Coulomb scattering in thin silicon
Multiple Coulomb scattering in thin silicon
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薄硅中的多次库仑散射
DOI：
10.1088/1748-0221/9/07/p07007
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发表时间：
2014
影响因子：
1.3
通讯作者：
N. Berger
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
N. Berger
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DOI：
10.1016/s0378-4371(98)00224-6
发表时间：
2001-02
期刊：
--
影响因子：
--
作者：
通讯作者：
--
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影响因子：
1.8
作者：
J. Kemmer;G. Lutz
通讯作者：
G. Lutz
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DOI：
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发表时间：
2001
期刊：
影响因子：
--
作者：
J. Ulrici;S. Adler;P. Buchholz;P. Fischer;P. Klein;M. Löcker;G. Lutz;W. Neeser;L. Strüder;M. Trimpl;N. Wermes
通讯作者：
N. Wermes
600 MeV 质子小角度多重散射。
DOI：
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发表时间：
1972
期刊：
影响因子：
--
作者：
E. Hungerford;G. Mutchler;G. C. Phillips;M. L. Scott;J. Allred;L. Lee;B. Mayes;C. Goodman
通讯作者：
C. Goodman
美女追踪器升级
DOI：
--
发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
--
作者：
C. Kreidl
通讯作者：
C. Kreidl