Formation of 0.3 nm-High Atomically Stepped Polymer Sheets Applicable to Nanotemplate Substrates for Self-Assembly
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适用于自组装纳米模板基板的 0.3 nm 高原子级聚合物片的形成
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M. Yoshimoto
中科院分区：
文献类型：
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作者：
G. Tan;T. Funabasama;Y. Nozawa;S. Kaneko;A. Matsuda;M. Yoshimoto
