Reactive growth of HfN and TiO2 using peak current regulated high-power impulse magnetron sputtering
Reactive growth of HfN and TiO2 using peak current regulated high-power impulse magnetron sputtering
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使用峰值电流调节高功率脉冲磁控溅射反应生长 HfN 和 TiO2
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
U. Helmersson
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Shimizu;M. Villamayor;J. Keraudy;D. Lundin;U. Helmersson
