Observation of Swelling Behavior of ArF Resist during Development by using QCM Method (2)
Observation of Swelling Behavior of ArF Resist during Development by using QCM Method (2)
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利用QCM方法观察ArF抗蚀剂在显影过程中的溶胀行为（2）
DOI：
10.2494/photopolymer.25.467
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发表时间：
2012
影响因子：
0.8
通讯作者：
M. Isono
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A. Sekiguchi;H. Konishi;M. Isono
