「Surface Cleaning of (100) n-Ge by H2O2 Aqueous Solution 」
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《H2O2 水溶液对 (100) n-Ge 的表面清洗》
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and A. Toriumi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
W.F. Zhang;C.M. Lu;C.H. Lee;T. Nishimura;K. Nagashio;and A. Toriumi
