プラズマCVD SiNx薄膜の深さ方向化学組成および欠陥密度計測
プラズマCVD SiNx薄膜の深さ方向化学組成および欠陥密度計測
复制标题
等离子体CVD SiNx薄膜的深度方向化学成分和缺陷密度测量
DOI：
--
复制
发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
三浦 真嗣
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
R;Yougauchi;K. Makihara;大田 晃生;門島 勝;三浦 真嗣
