分子線エピタキシー法によるGaP基板上へのZnMgSTeの作製と評価
分子線エピタキシー法によるGaP基板上へのZnMgSTeの作製と評価
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分子束外延法在GaP衬底上制备ZnMgSTe并对其进行评价
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
市野 邦男
中科院分区：
文献类型：
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作者：
佐橋 響真;難波 直;門田 匡弘;長谷川 浩康;中島 賢宏;赤岩 和明;阿部 友紀;市野 邦男
