Stability of Thermocapillary Convection in Rotating Shallow Annular Pool of Silicon Melt
Stability of Thermocapillary Convection in Rotating Shallow Annular Pool of Silicon Melt
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硅熔体旋转浅环形池中热毛细管对流的稳定性
DOI：
10.1007/s12217-010-9194-9
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发表时间：
2010-04
影响因子：
1.8
通讯作者：
Imaishi, Nobuyuki
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Shi, Wanyuan;Li, You-Rong;Ermakov, Michael K.;Imaishi, Nobuyuki
为了了解熔池旋转对热毛细对流稳定性的影响，在微重力条件下，采用线性稳定性分析（LSA）方法，研究了在不同旋转速率（Ta = 0 ~ 1513.9）下，硅熔体（Pr= 0.011）旋转浅环形熔池中振荡流发生的临界条件.结果表明，随着Ta数的增加，热液波（HTW）发生的临界Marangoni值增大，池旋转稳定硅熔体的稳定轴对称热毛细对流。当Ta ≤ 378.5时，临界方位波数mc随Ta数的增加而线性减小。当Ta> 378.5时，mcalmost保持不变，mc = 34。当Ta < 550时，HTW沿与池旋转方向相同的方向传播，而当Ta> 550时，HTW沿相反的方向传播。
In order to understand the effect of pool rotation on stability of thermocapillary convection, the critical conditions for the incipience of oscillatory flow in rotating shallow annular pools of silicon melt (Pr= 0.011) are investigated by means of linear stability analysis (LSA) under different pool rotation rates ranging fromTa= 0 to 1,513.9 and under microgravity condition. The results indicate that with increase ofTanumbers, the critical Marangoni for the incipience of hydrothermal wave (HTW) increases, i.e., pool rotation stabilizes the steady axisymmetric thermocapillary convection of silicon melt. The critical azimuthal wave numbermcdecreases linearly with increase ofTanumber whenTa≤ 378.5. However, whenTa> 378.5,mcalmost keeps constant withmc= 34. WhenTa< 550 the HTW propagates in the same direction as the pool rotation direction, while it is reversed whenTa> 550.
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影响因子：
1.8
作者：
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V. Shevtsova
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Bok-Cheol Sim;A. Zebib
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作者：
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A. Gelfgat
DOI：
10.1016/j.ijheatmasstransfer.2007.06.029
发表时间：
2008-04
影响因子：
5.2
作者：
You-Rong Li;Lan Xiao;Shuang-Ying Wu;N. Imaishi
通讯作者：
You-Rong Li;Lan Xiao;Shuang-Ying Wu;N. Imaishi
影响因子：
4.6
作者：
A. Zebib
通讯作者：
A. Zebib