二段階プロセスで成膜したイットリア薄膜の結晶性とフッ素系ハロゲンプラズマ耐性
二段階プロセスで成膜したイットリア薄膜の結晶性とフッ素系ハロゲンプラズマ耐性
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两步法氧化钇薄膜的结晶度及耐氟卤素等离子体性能
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
桜井健次
中科院分区：
文献类型：
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作者：
石井真史;池田直樹;津谷大樹;桜井健次
