T.Sase, M.Takeyama and A.Noya: "Application of Ta-W alloy films as diffusion barriers for Cu/Si contact systems" Technical Report of IEICE Jpn.96. No.350. 13-19 (1996)
T.Sase, M.Takeyama and A.Noya: "Application of Ta-W alloy films as diffusion barriers for Cu/Si contact systems" Technical Report of IEICE Jpn.96. No.350. 13-19 (1996)
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T.Sase、M.Takeyama 和 A.Noya：“Ta-W 合金薄膜作为 Cu/Si 接触系统扩散阻挡层的应用”IEICE Jpn.96 的技术报告。
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