The flux control of ion incident upon the substrate in oxygen plasma for ZnO film synthesis based on mass-selective momentum control
The flux control of ion incident upon the substrate in oxygen plasma for ZnO film synthesis based on mass-selective momentum control
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基于质量选择动量控制的氧等离子体中入射到基板上的离子通量控制用于 ZnO 薄膜合成
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Oonuki
中科院分区：
文献类型：
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作者：
N.Y;Sato・K;Kinoshita・Y;Nakano・T;Ikehata・S;Yamauchi・J;Oonuki
