ドライエッチング後の表面処理がSiC/SiO_2界面に与える影響
ドライエッチング後の表面処理がSiC/SiO_2界面に与える影響
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干法刻蚀后表面处理对SiC/SiO_2界面的影响
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
南園悠一郎
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y. Nanen;M. Kato;J. Suda;T. Kimoto;南園悠一郎;Yuichiro Nanen;南園悠一郎
