Masamichi Toyoda: "In-Situ Ellipsometric Analysis of Formation Process of TiO_2 Thin Films in MOCVD" J. Japan Inst. Metals. 54. 925-932 (1990)
Masamichi Toyoda: "In-Situ Ellipsometric Analysis of Formation Process of TiO_2 Thin Films in MOCVD" J. Japan Inst. Metals. 54. 925-932 (1990)
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Masamichi Toyoda：“MOCVD 中 TiO_2 薄膜形成过程的原位椭圆光度分析” J. Japan Inst.
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