Investigation of Formation Process of an Anodic Porous Alumina Film on a Silicon Substrate
Investigation of Formation Process of an Anodic Porous Alumina Film on a Silicon Substrate
复制标题
硅基体阳极多孔氧化铝膜形成过程的研究
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M.Niwano
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H.Shiraki;Y.Kimura;H.Ishii;S.Ono;K.Itaya;M.Niwano
