N.Nakamura, Y.Saito: "Helium addition effect on the remote-plasma-enhanced etching of silicon-related materials using anhydrous hydrogen fluoride gas"Proc.International Conference on Electrical Engineering 2003. 067-1-067-4 (2003)
N.Nakamura, Y.Saito: "Helium addition effect on the remote-plasma-enhanced etching of silicon-related materials using anhydrous hydrogen fluoride gas"Proc.International Conference on Electrical Engineering 2003. 067-1-067-4 (2003)
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N.Nakamura, Y.Saito：“氦添加效应对使用无水氟化氢气体的硅相关材料的远程等离子体增强蚀刻”Proc.国际电气工程会议 2003. 067-1-067-4 (2003)
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