W. Futako, K. Yoshino, C.M. Fortmann, I. Shimizu: "Wide band gap amorphous silicon thin films prepared by chemical annealing"J. Appl. Phys.. 85. 812-818 (1999)
W. Futako, K. Yoshino, C.M. Fortmann, I. Shimizu: "Wide band gap amorphous silicon thin films prepared by chemical annealing"J. Appl. Phys.. 85. 812-818 (1999)
复制标题
W. 二子，K. 吉野，C.M.
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
