パルスレーザー堆積法による複酸化物薄膜のエピタキシー

パルスレーザー堆積法による複酸化物薄膜のエピタキシー
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脉冲激光沉积法制备双氧化物薄膜

DOI:
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发表时间:
2008
期刊:
機能性材料 28
影响因子:
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通讯作者:
大西剛
大西剛
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
T. Nakane;A. Asthana;K. Hashi;M. Murakami;K. Takahashi;H. Abe;T. Shimizu;H. Kitaguchi and H. Kumakura;大西剛

文献摘要

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