Effects of phase shift mask design on three-dimension nanostructure fabrication
Effects of phase shift mask design on three-dimension nanostructure fabrication
复制标题
相移掩模设计对三维纳米结构制造的影响
DOI：
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Yukiharu Uraoka
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Pongsakorn Sihapitak;Yasuaki Ishikawa;Xudongfang Wang;Mutsunori Uenuma;Yukiharu Uraoka
