Epitaxial Growth of SiGe Alloy and Its Atomic Layer Control (Technical Review Paper)(in Japanese)
Epitaxial Growth of SiGe Alloy and Its Atomic Layer Control (Technical Review Paper)(in Japanese)
复制标题
SiGe合金的外延生长及其原子层控制（技术评论论文）（日文）
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M.Sakuraba
中科院分区：
文献类型：
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作者：
J.Murota;M.Sakuraba
