Modelling the growth of ZnO thin films by PVD methods and the effects of post-annealing.
Modelling the growth of ZnO thin films by PVD methods and the effects of post-annealing.
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通过 PVD 方法模拟 ZnO 薄膜的生长以及后退火的影响。
DOI：
10.1088/0953-8984/25/13/135002
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Blackwell S
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Blackwell S
结果提出的蒸发和磁控溅射沉积Zn x O y上的O-终止的ZnO（
Results are presented for modelling of the evaporation and magnetron sputter deposition of Zn x O y onto an O-terminated ZnO (