K.Yamakawa et al.: "SiO2 Dry Etching Using Non-Equilibrium Atmospheric Pressure Micro-Plasma"Proc. The 3^<rd> International Workshop on basic Aspect of Non-equilibrium Plasma Interacting with Surface. 45 (2003)
K.Yamakawa et al.: "SiO2 Dry Etching Using Non-Equilibrium Atmospheric Pressure Micro-Plasma"Proc. The 3^<rd> International Workshop on basic Aspect of Non-equilibrium Plasma Interacting with Surface. 45 (2003)
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K.Yamakawa 等人：“使用非平衡大气压微等离子体进行 SiO2 干法蚀刻”Proc。
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