光電子分光法による鉄シリサイド表面の分析
光電子分光法による鉄シリサイド表面の分析
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通过光电子能谱分析硅化铁表面
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
吉岡峻平,中西篤志,山田健二
中科院分区：
文献类型：
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作者：
秋山賢輔;末益崇;浅川寛太，武安光太郎，松本益明，河内泰三，張小威，福谷克之;吉岡峻平,中西篤志,山田健二
