酸化グラフェンにおける三次非線形光学応答
酸化グラフェンにおける三次非線形光学応答
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氧化石墨烯的三阶非线性光学响应
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
南畑侑亮,神野現,松田一成,安藤弘明,市田正夫
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Yoshida;K. Ishii;M. Naka;S. Ishihara;I. Jarrige;K. Ikeuchi;Y. Murakami;K. Kudo;Y. Koike;T. Nagata;Y. Fukada;N. Ikeda & J. Mizuki;南畑侑亮,神野現,松田一成,安藤弘明,市田正夫
