H. Takahashi: "XPS and UHV contactless characterization of novel oxide-free InP passivation process using silicon surface quantum well"Japanese Journal of Applied Physics. 38. 1128-1132 (1999)
H. Takahashi: "XPS and UHV contactless characterization of novel oxide-free InP passivation process using silicon surface quantum well"Japanese Journal of Applied Physics. 38. 1128-1132 (1999)
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H. Takahashi：“使用硅表面量子阱的新型无氧化物 InP 钝化工艺的 XPS 和 UHV 非接触式表征”日本应用物理学杂志。
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