RFマグネトロンスパッタ法における基板へのイオン照射を用いた極性反転ZnO薄膜の作製
RFマグネトロンスパッタ法における基板へのイオン照射を用いた極性反転ZnO薄膜の作製
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采用射频磁控溅射法在基底上离子辐照制备极性反转 ZnO 薄膜
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
松川真美
中科院分区：
文献类型：
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作者：
生駒遼;柳谷隆彦;高柳真司;鈴木雅視;小田川裕之;松川真美
