T.Suemasu: "分子線エピタキシー法によるβ-FeSi_2球のSi中埋込み構造作製と高温アニールによる赤外フォトルミネッセンスの増大"レーザー研究. Vol.28,No.2. 99-102 (2000)
T.Suemasu: "分子線エピタキシー法によるβ-FeSi_2球のSi中埋込み構造作製と高温アニールによる赤外フォトルミネッセンスの増大"レーザー研究. Vol.28,No.2. 99-102 (2000)
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T. Suemasu：“通过分子束外延法制备硅中的 β-FeSi_2 球体嵌入结构并通过高温退火增强红外光致发光”《激光研究》第 28 卷，第 99-102 期（2000 年）。
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