種々のジアリールエテンのずれ応力下における光異性化条件の解明
種々のジアリールエテンのずれ応力下における光異性化条件の解明
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阐明剪切应力下各种二芳基乙烯的光致异构化条件
DOI：
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
井口 眞
中科院分区：
文献类型：
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作者：
酒井 智隆;舟浴 佑典;井口 眞
