XRD and EBSD analysis of Cu film on randomly oriented ZrN x film as the underlying materials
XRD and EBSD analysis of Cu film on randomly oriented ZrN x film as the underlying materials
复制标题
作为底层材料的随机取向 ZrN x 薄膜上的 Cu 薄膜的 XRD 和 EBSD 分析
DOI：
10.35848/1347-4065/ab7f57
复制
发表时间：
2020
影响因子：
1.5
通讯作者：
Takeyama Mayumi B.
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Sato Masaru;Yasuda Mitsunobu;Takeyama Mayumi B.
