Reduction of Copper Oxide by Water Vapor Plasma at Low Pressure
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低压水蒸气等离子体还原氧化铜
DOI：
10.1541/ieejsmas.139.157
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发表时间：
2019
影响因子：
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通讯作者：
O. Tsuji
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Hirokazu Terai;Keigo Okafuji;Takaya Tanaka;Taichi Hashimoto;H. Nakano;O. Tsuji
