XPS study fo silicon surface after ultra-low-energy ion implantation
XPS study fo silicon surface after ultra-low-energy ion implantation
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超低能离子注入后硅表面的 XPS 研究
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H.Itoh
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K.Yamamoto;H.Itoh
