Y.Ohtsu: "Time-averaged energy distribution function of ions impacted on an rf biased substrate in ECR microwave plasma by means of a conventional energy analyzer"Japanese Journal Applied Physics. 43・1. 328-331 (2004)
Y.Ohtsu: "Time-averaged energy distribution function of ions impacted on an rf biased substrate in ECR microwave plasma by means of a conventional energy analyzer"Japanese Journal Applied Physics. 43・1. 328-331 (2004)
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Y.Ohtsu：“通过传统能量分析仪在 ECR 微波等离子体中撞击射频偏压基底的离子的时间平均能量分布函数”，日本应用物理学杂志 43・1（2004 年）。
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