スリット型狭ギャッププラズマ源を用いたオンサイトSiH4生成
スリット型狭ギャッププラズマ源を用いたオンサイトSiH4生成
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使用狭缝型窄间隙等离子体源现场生成 SiH4
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
武居則久，篠田史也，垣内弘章，安武 潔，大参宏昌
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Hiromasa Ohmi;F. Shinoda;N. Takei;H. Kakiuchi;K. Yasutake;武居則久，篠田史也，垣内弘章，安武 潔，大参宏昌
