Thin layer growth on cobalt surface in solutions simulating slurry chemistry for chemical mechanical polishing
Thin layer growth on cobalt surface in solutions simulating slurry chemistry for chemical mechanical polishing
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模拟化学机械抛光浆料化学的溶液中钴表面薄层的生长
DOI：
10.35848/1347-4065/ac6219
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发表时间：
2022
影响因子：
1.5
通讯作者：
Hiyama Hirokuni
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Kondoh Eiichi;Takeuchi Shota;Jin Lianhua;Koshino Ryota;Hamada Satomi;Hiyama Hirokuni
