First-principles study on electronic structure modifications of Si substrtae with the Cl-terminated surface
First-principles study on electronic structure modifications of Si substrtae with the Cl-terminated surface
复制标题
Cl封端硅衬底电子结构修饰的第一性原理研究
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and K. Eriguch
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y. Yoshikawa;K. Urabe;and K. Eriguch
